特許
J-GLOBAL ID:200903011756529657
耐原子状酸素フィルム
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-207807
公開番号(公開出願番号):特開2003-113264
出願日: 2002年07月17日
公開日(公表日): 2003年04月18日
要約:
【要約】【課題】 人工衛星、スペ-スシャトル、宇宙ステ-ションなどの宇宙飛行体の熱制御材料として使用されているポリイミドフィルムの耐原子状酸素性を改良する。【解決手段】 ポリイミドフィルムに、ポリイミドフィルムにフィルムポリイミドシロキサンおよび熱硬化性樹脂を含有する硬化膜などの耐原子状酸素塗膜を設けてなり、約8km/secの速度で約3×1020atoms/cm2の照射量の原子状酸素を照射して質量減少割合が1.0%以下である耐原子状酸素を設けてなる耐原子状酸素フィルム。
請求項(抜粋):
ポリイミドフィルムに耐原子状酸素塗膜を設けてなり、約8km/secの速度で約3×1020atoms/cm2の照射量の原子状酸素を照射して質量減少割合が1.0%以下である耐原子状酸素フィルム。
IPC (5件):
C08J 7/04 CFG
, B32B 27/00 101
, B32B 27/34
, B64G 1/58
, C08L 79:08
FI (5件):
C08J 7/04 CFG Z
, B32B 27/00 101
, B32B 27/34
, B64G 1/58
, C08L 79:08 Z
Fターム (19件):
4F006AA39
, 4F006AB24
, 4F006AB34
, 4F006AB39
, 4F100AK01B
, 4F100AK49A
, 4F100AK52B
, 4F100AK53
, 4F100AL05B
, 4F100BA02
, 4F100CA07B
, 4F100CC00B
, 4F100EH46B
, 4F100EJ12B
, 4F100EJ42B
, 4F100GB31
, 4F100JB13B
, 4F100JL02
, 4F100YY00B
引用特許:
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