特許

J-GLOBAL ID：200903011763747457

分子積分計算方法

発明者： 大村 秀之 ,  安井 潤
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-299352
公開番号（公開出願番号）：特開2007-109023
出願日： 2005年10月13日
公開日（公表日）： 2007年04月26日
要約：

【課題】電子状態計算の高速化を達成し効率的に材料特性を予測することができるようにする。【解決手段】分子積分の計算に用いられる数値積分計算において積分点を自己無撞着場の繰り返し計算の初期では少なくし収束が近づくにつれて増やし最終的に全てを用いて計算することにより精度を犠牲にすることなく自己無撞着場計算の計算時間を短縮する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

原子軌道関数の線形結合によって分子軌道を構成する分子軌道法で、自己無撞着場の計算の中で原子基底関数を再生成する手法における分子積分計算方法であって、 前記自己無撞着場の繰り返し計算の初期においては、分子積分を行う前に発生させた数値積分点に対し数値積分計算に用いる積分点を少なくする工程と、 前記自己無撞着場の計算が収束に近づくに従い、用いる積分点を増し最終的には発生させた積分点を全て用いて分子積分計算を行う工程とを備えたことを特徴とする分子積分計算方法。

IPC (2件)：

G06F 17/13 ,  G06F 19/00

FI (2件)：

G06F17/13 ,  G06F19/00 110

Fターム (3件)：

5B056AA04 ,  5B056BB03 ,  5B056HH07