特許
J-GLOBAL ID：200903011765826915
集積回路の製作に使用されるホトレジスト剥離用組成物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川口 義雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-110636
公開番号（公開出願番号）：特開2000-347423
出願日： 2000年04月12日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：
【要約】【課題】ハロゲン化炭化水素に代替し得るホトレジスト剥離剤の開発【解決手段】本発明は、ホトレジストを剥離するために、ジメチルスルホキシド(DMSO)またはN-メチルピロリドン(NMP)と3-メトキシプロピルアミン(MOPA)との混合物を使用することを提案する。少量の水とナトリウムトリルトリアゾラートのような防腐剤とを混合物に添加するのが有利である。
請求項（抜粋）：
30〜95質量%のジメチルスルホキシド(DMSO)またはN-メチルピロリドン(NMP)と70〜5質量%の3-メトキシプロピルアミン(MOPA)とを含有することを特徴とするホトレジスト剥離用組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/42
, H01L 21/30 572 B
