特許
J-GLOBAL ID：200903011774626147
ポジ型ホトレジスト塗布液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-040461
公開番号（公開出願番号）：特開平9-211845
出願日： 1996年02月02日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：
【要約】【課題】本発明は、塗布性、感度、耐熱性、焦点深度幅特性、プロファイル形状などの特性に優れている上に、現像残渣の発生がなく、かつ残膜率が高いポジ型レジスト塗布液を提供すること。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド基含有化合物、及び有機溶剤を含有するポジ型レジスト塗布液において、前記有機溶剤がプロピレングリコールモノプロピルエーテルケと2-ヘプタノンとを含有する混合溶剤であることを特徴とするポジ型レジスト塗布液。
請求項（抜粋）：
(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)キノンジアジド基含有化合物、及び(c)有機溶剤を含有するポジ型ホトレジスト塗布液において、前記有機溶剤が(イ)プロピレングリコールモノプロピルエーテルと(ロ)2-ヘプタノンとを含有することを特徴とするポジ型ホトレジスト塗布液。
IPC (6件)：
G03F 7/004 501
, C09D 5/00 PNV
, C09D 11/00 PTE
, C09D161/04 PHC
, G03F 7/022
, H01L 21/027
G03F 7/004 501
, C09D 5/00 PNV
, C09D 11/00 PTE
, C09D161/04 PHC
, G03F 7/022
, H01L 21/30 502 R
