特許
J-GLOBAL ID：200903011784632595
フッ化物薄膜の製造方法及びその方法により製造した光学薄膜
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-314064
公開番号（公開出願番号）：特開平11-140624
出願日： 1997年11月14日
公開日（公表日）： 1999年05月25日
要約：
【要約】【課題】 安全性、利便性、環境性があり、λ=400nm以下の波長領域で膜損失の小さなフッ化物薄膜の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】真空雰囲気中で蒸発源からフッ素化合物を飛散させて基板上に成膜するフッ化物薄膜の製造方法において、前記成膜中に、遷移元素のフッ化物を熱分解してフッ素を供給することを特徴とするフッ化物薄膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
真空雰囲気中で蒸発源からフッ素化合物を飛散させて基板上に成膜するフッ化物薄膜の製造方法において、前記成膜中に、遷移元素のフッ化物を熱分解してフッ素を供給することを特徴とするフッ化物薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/06 G
, H01L 21/203 Z
