特許

J-GLOBAL ID：200903011789454385

物質を低汚染溶融する装置および方法

発明者： ライスター,ミヒャエル ,  シェーファー,エルネスト,ヴァルター ,  エイヒベルク,レオポルド ,  オームシュテデ,フォルカー
出願人/特許権者： カール-ツアイス-シュティフツンク
代理人 (12件)： 岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  産形 和央 ,  臼井 伸一 ,  藤野 育男 ,  越智 隆夫 ,  本宮 照久 ,  高梨 憲通 ,  朝日 伸光 ,  高橋 誠一郎 ,  吉澤 弘司 ,  松井 孝夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-534343
公開番号（公開出願番号）：特表2005-523861
出願日： 2002年09月12日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：

本発明は、高純度で浸食性および/または高融点のガラスまたはガラスセラミックを低汚染溶融する装置および方法に関する。 本発明によれば、上記目的のため、溶融物は坩堝または溶融スカル坩堝内で高周波放射により加熱され、上記溶融坩堝内で混合または均質化される。 そこから出る気泡(たとえば、酸素気泡(O2泡立ちとして知られている))が溶融物中へ逃散するガスノズルが、坩堝の基部に設けられることが好適である。 上記のことだけで、溶融スカル坩堝において驚くほど多くの利益が達成されることが可能になる。第1に、固形の溶融物中にたとえば上方から下降する未溶融バッチは、溶融物の液分とより強力に混合することでより迅速に溶融され、第2に、溶融物の温度分布がより均一となり、第3に、異なるガラス成分の均一な分布または混合が達成され、第4に、ガラスの酸化還元状態を調整することができる。

請求項（抜粋）：

物質を溶融するための、特に、高純度で侵食性および/または高融点のガラスまたはガラスセラミックを溶融するための装置(1、101、201、301)であって、 坩堝(10)、 電磁放射線を放射する放射装置(30)であって、該放射線により前記坩堝(10)内に供給されることができる溶融物(40)中にエネルギーを導入することが可能である、放射装置(30)、および 前記坩堝(10)に付与される混合装置または均質化装置(50、150、250、350、350’) を備える、物質を溶融する装置。

IPC (1件)：

C03B5/06

FI (1件)：

C03B5/06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 溶融ガラス攪拌体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-087607   出願人：日本電気硝子株式会社
• 特公昭49-039899
  
• 特開平2-167839
  
• 特開昭55-080729