光学装置およびそれを用いた光加工システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：上柳雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-282208
公開番号（公開出願番号）：特開2002-207202
出願日： 1992年05月20日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】1液晶空間光変調器を用いて、光利用効率が高くかつ平面ばかりでなく曲面へもパターン刻印が可能な光学装置を提供する、2液晶空間光変調器を用いて、光利用率が高くかつ曲面の立体形成が可能な光学装置を提供する、3これらなお光学装置をロボットへ搭載して、汎用性の高い光加工システムを提供する。【解決手段】少なくとも、コヒーレント光源101と、前記コヒーレント光源からの光の波面を制御するための液晶空間光変調器104と、前記液晶光変調器へ複素振幅分布を記録する手段108,109を備えていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

空間にパターンを発生するための光学装置に関し、少なくとも、コヒーレント光源と、前記コヒーレント光源からの光の波面を制御する少なくともひとつの空間光変調手段、及び前記空間光変調手段へ複素振幅データを記録する手段とを備え、前記空間光変調手段へ複素振幅データを記録する手段は、少なくとも、所望の再生パターンデータを入力する手段と、乱数データを発生する手段、及びフーリエ変換を実行する手段とを備えていることを特徴とする光学装置。

IPC (4件)：

G02F 1/061 503 , B23K 26/06 , G02F 1/13 505 , G03H 1/22

FI (4件)：

G02F 1/061 503 , B23K 26/06 E , G02F 1/13 505 , G03H 1/22

Fターム (20件)：

2H079AA02 , 2H079AA12 , 2H079BA01 , 2H079CA02 , 2H079DA08 , 2H079GA05 , 2H079HA16 , 2H079KA01 , 2H079KA06 , 2H079KA18 , 2H088EA37 , 2H088EA44 , 2H088MA20 , 2K008AA08 , 2K008FF21 , 2K008FF27 , 2K008HH06 , 2K008HH26 , 4E068CD05 , 4E068CD08

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