特許

J-GLOBAL ID：200903011796757393

常圧CVD装置

発明者： 平田 教行 ,  北神 正一
出願人/特許権者： 株式会社東芝 ,  東芝電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 樺澤 襄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-345638
公開番号（公開出願番号）：特開平5-182912
出願日： 1991年12月26日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：

【要約】【目的】 装置稼働率を向上し、効率のよいレイアウトにすることができる常圧CVD装置を提供する。【構成】 ガラス基板をカセットに収納して基板搬入部1にセットすると、基板搬入部1はガラス基板を1枚ずつ所定間隔で、ガラス基板前処理部11へ搬送する。ガラス基板前処理部11で前処理し、クリーントンネル部12を介してガラス基板を搬入する。ガラス基板は、予備加熱部2で加熱し、CVD部3において一定温度に保ちながらガラス基板上に薄膜を形成する。冷却部4にて冷却し、基板搬出部5ではガラス基板を1枚ずつカセット内に取り込み、搬出する。ベルトコンベア15は、ベルトエッチ部21のHFベーパー雰囲気のHFチャンバ内において付着した薄膜をエッチングし、超音波洗浄槽22内で洗浄し、ベルト乾燥部23で乾燥する。

請求項（抜粋）：

被成膜物を搬入する搬入部と、この搬入された被成膜物を洗浄する前処理部と、前記被成膜物を気相化学成長させるCVD部と、前記被成膜物を搬出する搬出部と、前記被成膜物を前記CVD部に搬送するベルトコンベアと、このベルトコンベアを駆動させるベルト駆動部と、前記ベルトコンベアを洗浄するベルトコンベア洗浄部とを具備したことを特徴とする常圧CVD装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/54 ,  H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-225515
  
• 特開昭60-127726
  
• 特開昭52-139378