特許
J-GLOBAL ID:200903011798556751

水素製造装置及びメタノール製造装置及び原子力装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 猪股 祥晃 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-138262
公開番号(公開出願番号):特開2000-327301
出願日: 1999年05月19日
公開日(公表日): 2000年11月28日
要約:
【要約】【課題】多量の水素を安価に発生可能とする水素製造装置及びこの水素製造装置によって得られる水素を用いるメタノール製造装置及び原子力装置を得る。【解決手段】水素製造装置は、中性子線やガンマ線等の放射線を発生する放射線発生装置(11)と、この放射線発生装置の近傍または周囲に配置され水を内蔵する水容器(12)と、前記水が前記放射線を受けて発生する水素を抽出する水素抽出装置15とを備えた構成とする。メタノール製造装置は、熱機関からの排気中の二酸化炭素をゼオライトによりあるいは多孔質の無機材料から成る分離壁を流通させることにより回収し、得られた二酸化炭素と前記水素製造装置から得られる水素を反応させメタノールを得る構成とする。原子力装置は、前記水素製造装置から得られる水素を沸騰水型軽水炉の冷却系に導入する構成とする。
請求項(抜粋):
中性子線やガンマ線等の放射線を発生する放射線発生装置と、この放射線発生装置の近傍または周囲に配置され水を内蔵する水容器と、前記水が前記放射線を受けて発生する水素を抽出する水素抽出装置とを備えたことを特徴とする水素製造装置。
IPC (7件):
C01B 3/04 ,  C07C 29/152 ,  C07C 31/04 ,  G21C 5/00 ,  G21D 1/02 GDB ,  G21D 9/00 GDD ,  G21H 5/00
FI (7件):
C01B 3/04 R ,  C07C 29/152 ,  C07C 31/04 ,  G21C 5/00 D ,  G21D 1/02 GDB T ,  G21D 9/00 GDD ,  G21H 5/00 C
Fターム (6件):
4H006AA04 ,  4H006AC41 ,  4H006BE20 ,  4H006BE41 ,  4H006DA10 ,  4H006FE11

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