特許
J-GLOBAL ID:200903011799964918
フィルタ付き表示装置の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
稲葉 良幸 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-038205
公開番号(公開出願番号):特開2000-235348
出願日: 1999年02月17日
公開日(公表日): 2000年08月29日
要約:
【要約】【課題】 製造が容易なフィルタ付き表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の製造方法は、1)光を透過する第1基板200上に光の供給により剥離を生ずる剥離層201を形成する工程、2)剥離層201上に保護層110を形成する工程、3)保護層110上に画素領域単位の表示を制御するための駆動層100を形成する工程、4)駆動層100上に仮接着層301を介して転写基板300を貼り合わせる工程、5)剥離層201に第1基板200側から光を供給して当該剥離層201に剥離を生じさせ、当該第1基板200を分離する工程、および、6)第1基板200を分離して露出した保護層110に駆動層100の画素領域に対応させてフィルタ120〜123を形成する工程を備える。
請求項(抜粋):
フィルタを備えた表示装置の製造方法において、光を透過する第1基板上に光の供給により剥離を生ずる剥離層を形成する工程と、前記剥離層上に保護層を形成する工程と、前記保護層上に画素領域単位の表示を制御するための駆動層を形成する工程と、前記駆動層上に仮接着層を介して第2基板を貼り合わせる工程と、前記剥離層に前記第1基板側から光を供給して当該剥離層に剥離を生じさせ、当該第1基板を分離する工程と、前記第1基板を分離して露出した前記保護層に前記駆動層の画素領域に対応させてフィルタを形成する工程と、を備えたことを特徴とするフィルタ付き表示装置の製造方法。
IPC (6件):
G09F 9/00 321
, G02F 1/1333 500
, G02F 1/1335 505
, H01L 29/786
, H01L 21/336
, G02B 5/20 101
FI (6件):
G09F 9/00 321 E
, G02F 1/1333 500
, G02F 1/1335 505
, G02B 5/20 101
, H01L 29/78 619 B
, H01L 29/78 627 D
Fターム (60件):
2H048BA12
, 2H048BA45
, 2H048BA55
, 2H048BA64
, 2H048BB02
, 2H048BB14
, 2H048BB42
, 2H090JA05
, 2H090JA07
, 2H090JA09
, 2H090JA19
, 2H090JB02
, 2H090JB11
, 2H090JC01
, 2H090JC02
, 2H090JC07
, 2H090JD13
, 2H090LA04
, 2H090LA09
, 2H090LA15
, 2H091FA02Y
, 2H091FA07X
, 2H091FA07Z
, 2H091FA35Y
, 2H091FB02
, 2H091FC12
, 2H091FC18
, 2H091FD04
, 2H091FD05
, 2H091FD08
, 2H091FD12
, 2H091FD14
, 2H091GA01
, 2H091GA07
, 2H091GA13
, 2H091GA16
, 2H091GA17
, 2H091LA12
, 5F110BB04
, 5F110CC02
, 5F110DD02
, 5F110DD03
, 5F110DD13
, 5F110DD24
, 5F110FF29
, 5F110GG02
, 5F110GG13
, 5F110GG47
, 5F110HJ01
, 5F110HJ13
, 5F110NN03
, 5F110PP03
, 5F110QQ11
, 5F110QQ17
, 5G435AA17
, 5G435BB12
, 5G435CC12
, 5G435DD13
, 5G435GG12
, 5G435KK05
前のページに戻る