特許
J-GLOBAL ID：200903011801143170
X線露光用マスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-221061
公開番号（公開出願番号）：特開平7-078740
出願日： 1993年09月06日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：
【要約】【構成】X線透過性支持膜とX線吸収性薄膜パターンとアライメント光のX線透過性支持膜での多重反射を防止するための反射防止膜とを備えたX線露光用マスクの製造方法において、上記反射防止膜を、イオン放電下において反応性蒸着を行なうイオン・アシスト蒸着法にて成膜する事を特徴とするX線露光用マスクの製造方法。【効果】製造工程中のX線露光用マスクにダメージを与えることなく反射防止膜を形成でき、反射防止膜の膜厚を正確にコントロールできるために、光学特性の良いX線露光用マスクを得ることができる。更に本発明によって得られるX線露光用マスクはイオンアシスト蒸着法による反射防止膜の作用により、X線照射耐性が向上する。
請求項（抜粋）：
X線透過性支持膜とX線吸収性薄膜パターンとアライメント光のX線透過性支持膜での多重反射を防止するための反射防止膜とを備えたX線露光用マスクの製造方法において、上記反射防止膜を、イオン放電下において反応性蒸着を行なうイオン・アシスト蒸着法にて成膜する事を特徴とするX線露光用マスクの製造方法。
IPC (2件)：
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