特許

J-GLOBAL ID：200903011806181070

多層膜反射鏡、反射多層膜の成膜方法、成膜装置及び露光装置

発明者： 神高 典明
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-335053
公開番号（公開出願番号）：特開2005-099571
出願日： 2003年09月26日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】 反射多層膜の表面粗さを低減しつつ、より高い反射率を得ることができ、総膜厚の薄い多層膜反射鏡等を提供する 【解決手段】 基板103の表面には、モリブデンとシリコンからなるMo/Si多層膜(深層側多層膜)101がイオンビームスパッタ法によって成膜されている。深層側多層膜101の表面には、マグネトロンスパッタ法の1種である低圧放電ロータリーマグネットカソードスパッタ法により、Mo/Si多層膜(表層側多層膜)102が成膜されている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板表面上に、屈折率の異なる2種類以上の物質を積層してなる多層膜が成膜された多層膜反射鏡であって、 前記多層膜を構成する各膜のうちのあるものはイオンビームスパッタ法により成膜されており、他の膜はマグネトロンスパッタ法により成膜されていることを特徴とする多層膜反射鏡。

IPC (5件)：

G02B5/26 ,  C23C14/06 ,  C23C14/14 ,  G02B5/08 ,  G02B5/28

FI (6件)：

G02B5/26 ,  C23C14/06 R ,  C23C14/14 G ,  G02B5/08 A ,  G02B5/08 C ,  G02B5/28

Fターム (25件)：

2H042DA08 ,  2H042DA12 ,  2H042DC02 ,  2H042DC03 ,  2H042DE04 ,  2H048FA05 ,  2H048FA07 ,  2H048FA09 ,  2H048FA18 ,  2H048FA24 ,  2H048GA04 ,  2H048GA11 ,  2H048GA33 ,  2H048GA60 ,  2H048GA61 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA11 ,  4K029BA35 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD09 ,  4K029CA05 ,  4K029DC37 ,  4K029DC39