特許
J-GLOBAL ID：200903011819659777
回転式基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-099963
公開番号（公開出願番号）：特開平10-048841
出願日： 1992年03月23日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：
【要約】【課題】 複数個の薬液処理部を備えながらも装置全体を小型化するとともに保守点検や立ち上げおよび調整を手間少なく行うことができるようにする。【解決手段】 複数個の薬液処理部を、第1/第2/第3の薬液処理部2a,2b,2cの3個で構成し、薬液供給手段を、第1の薬液処理部2aと第2の薬液処理部2bとにわたって変位可能な第1の薬液供給手段3aと、第2の薬液処理部2bと第3の薬液処理部2cとにわたって変位可能な第2の薬液供給手段3bとから構成した。
請求項（抜粋）：
基板を回転可能に保持する複数個の薬液処理部と、その薬液処理部に薬液を供給する薬液供給手段とを備えた回転式基板処理装置であって、前記複数個の薬液処理部を、第1の薬液処理部と第2の薬液処理部および第3の薬液処理部で構成し、前記薬液供給手段を、前記第1の薬液処理部と前記第2の薬液処理部とにわたって変位可能な第1の薬液供給手段と、前記第2の薬液処理部と前記第3の薬液処理部とにわたって変位可能な第2の薬液供給手段とから構成したことを特徴とする回転式基板処理装置。
IPC (5件)：
G03F 7/30 501
, G03F 7/16 502
, H01L 21/027
, H01L 21/304 341
, H01L 21/306
G03F 7/30 501
, G03F 7/16 502
, H01L 21/304 341 N
, H01L 21/30 564 C
, H01L 21/30 569 C
, H01L 21/306 J
