マスターによらずに光ディスクを生産するためのマトリックスの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-025440
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326077
出願日： 1995年02月14日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：

【要約】【目的】時間サイクルが短縮し、エラーの数が減少し、生産量が増大し、そして化学薬品の使用を減らすことができる、光ディスク生産用のマトリックスをマスター抜きで製造するための方法を提供する。【構成】この方法は、ホトレジスト膜2を構造化されていないマトリックスプレート1に塗布し、このホトレジスト膜2を選択的に露光し次いで現像する工程を含む処理で構造化して構造化ホトレジスト膜3にする方法であり、当該ホトレジスト膜2を構造化されていないマトリックスプレート1に塗布するのにネガ型ホトレジストを使用することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ホトレジスト膜を構造化されていないマトリックスプレートに塗布し、塗布したこのホトレジスト膜を構造化し、この塗布したホトレジスト膜の構造化が当該塗布したホトレジスト膜を選択的に露光する工程と引続き現像する工程を含む、光ディスクを生産するためのマトリックスを製造する方法であって、当該ホトレジスト膜を当該構造化されていないマトリックスプレートに塗布するのにネガ型ホトレジストを使用することを特徴とする方法。

引用特許：

審査官引用 (64件)

特開昭62-291732
特開昭63-302439
特開昭56-169234

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