精密部品製造用基板洗浄用具

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-193613
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045645
出願日： 1995年07月28日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【課題】基板Aに吸着する塵や残滓を効果的且つ確実に除去し、フォトマスクやカラーフィルタの製造において基板に吸着する空気中の塵やパターン形成残滓による不均一な薄膜パターンやパターン欠陥の発生を回避して、良質な薄膜パターンが形成されるようにすることにある。【解決手段】ガラス容器1と、該ガラス容器1内に基板Aを縦姿勢で保持するためのガラス製の仕切板2とにより構成され、基板Aをガラス容器1内に装填し、ガラス容器1を、超音波洗浄装置3の洗浄槽4内に装填して超音波洗浄する。

請求項（抜粋）：

ガラス容器1と該ガラス容器1内に基板Aを縦姿勢で保持するためのガラス製の仕切板2とにより構成されることを特徴とする精密部品製造用基板洗浄用具。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 , B05B 11/02 , G03F 1/08

FI (3件)：

H01L 21/304 341 C , B05B 11/02 , G03F 1/08 X

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