特許
J-GLOBAL ID:200903011841721087
ガラスセラミック基板およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-176623
公開番号(公開出願番号):特開平7-038214
出願日: 1993年07月16日
公開日(公表日): 1995年02月07日
要約:
【要約】【目的】低温焼成が可能であり、誘電率が低く、かつ、銅メタライズの接着強度を向上させるとともに、熱膨張係数を制御することのできるガラスセラミック基板を提供する。【構成】硼珪酸ガラスを含有するガラス成分と、セラミックフィラーとして石英を3〜12重量%,アルミナを2〜5重量%含有するガラスセラミック基板であって、クリストバライト相の生成量が0.1〜2重量%であるガラスセラミック基板であり、硼珪酸ガラス38〜70重量%,アルミナ以外の不純物量を200ppm以下である石英ガラス25〜55重量%,石英3〜12重量%,アルミナ2〜5重量%からなる混合物を900〜1050°Cの温度で焼成するガラスセラミック基板の製造方法である。
請求項(抜粋):
硼珪酸ガラスを含有するガラス成分と、セラミックフィラーとして石英を3〜12重量%,アルミナを2〜5重量%含有するガラスセラミック基板であって、クリストバライト相の生成量が0.1〜2重量%であることを特徴とするガラスセラミック基板。
IPC (4件):
H05K 1/03
, C04B 35/14
, C04B 35/16
, H05K 3/46
FI (2件):
C04B 35/14
, C04B 35/16 Z
引用特許:
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