特許
J-GLOBAL ID:200903011844906533
洗浄方法およびその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
光石 俊郎 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-119268
公開番号(公開出願番号):特開2003-311231
出願日: 2002年04月22日
公開日(公表日): 2003年11月05日
要約:
【要約】【課題】 被処理物の表面の微細な隙間に侵入して付着した有害物質を除去する洗浄方法を提供することを課題とする。【解決手段】 被処理物1の表面の微細な隙間に侵入して付着した有害物質を除去する洗浄方法において、ジメチルスルホキシド(DMSO)洗浄液2中に前記被処理物1を浸漬することにより、前記隙間に当該洗浄液を侵入させて、当該隙間に付着した前記有害物質を洗浄除去する。
請求項(抜粋):
被処理物に付着した有害物質を除去する洗浄方法であって、ジメチルスルホキシド(DMSO)洗浄液中に前記被処理物を浸漬することにより、前記有害物質を洗浄除去することを特徴とする洗浄方法。
IPC (13件):
B08B 9/08
, B05B 1/20 101
, B05C 3/09
, B05C 9/14
, B05C 11/10
, B05D 1/02
, B05D 3/10
, B08B 3/02
, B08B 3/08
, B08B 3/10
, B08B 3/12
, C11D 7/34
, C11D 17/00
FI (13件):
B08B 9/08
, B05B 1/20 101
, B05C 3/09
, B05C 9/14
, B05C 11/10
, B05D 1/02 Z
, B05D 3/10 F
, B08B 3/02 A
, B08B 3/08 Z
, B08B 3/10 A
, B08B 3/12 A
, C11D 7/34
, C11D 17/00
Fターム (51件):
3B116AA23
, 3B116BB02
, 3B116BB82
, 3B116BB83
, 3B116CA03
, 3B116CC03
, 3B116CD31
, 3B201AA23
, 3B201AB03
, 3B201BB02
, 3B201BB21
, 3B201BB82
, 3B201BB83
, 3B201BB95
, 3B201BB98
, 3B201BB99
, 3B201CA03
, 3B201CC12
, 3B201CD11
, 3B201CD31
, 4D075AA01
, 4D075AA74
, 4D075AB03
, 4D075AB41
, 4D075BB65Z
, 4D075BB69Z
, 4D075DB11
, 4D075DC19
, 4D075EA05
, 4D075EC30
, 4F033AA04
, 4F033BA03
, 4F033DA05
, 4F033EA06
, 4F033HA01
, 4F040AA12
, 4F040AB13
, 4F040BA42
, 4F040CC07
, 4F042AA06
, 4F042AB00
, 4F042CC01
, 4F042CC10
, 4F042DA01
, 4F042DB21
, 4H003BA12
, 4H003DA12
, 4H003DA14
, 4H003EB21
, 4H003ED32
, 4H003FA03
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