特許

J-GLOBAL ID：200903011876701003

レジスト処理装置およびレジスト処理方法

発明者： 牛島 満 ,  飽本 正己 ,  平河 修 ,  木村 義雄
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-342580
公開番号（公開出願番号）：特開平7-007067
出願日： 1989年02月07日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：

【要約】【目的】 処理工程を必要に応じて選択的に変更が可能で、処理のスループットを向上させる。【構成】 被処理体収納容器から一枚づつ未処理被処理体を搬出してレジスト処理するレジスト処理装置において、前記レジスト処理は、レジスト液スピンコーティングステーション、レジスト現像液スピンコーティングステーション、レジスト加熱ステーションのうち少なくとも2つのステーションを被処理体を保持して直線状に移動する搬送装置の移動路に沿って設けた。

請求項（抜粋）：

被処理体収納容器から一枚づつ未処理被処理体を搬出してレジスト処理するレジスト処理装置において、前記レジスト処理は、レジスト液スピンコーティングステーション、レジスト現像液スピンコーティングステーション、レジスト加熱ステーションのうち少なくとも2つのステーションを被処理体を保持して直線状に移動する搬送装置の移動路に沿って設けたことを特徴とするレジスト処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B65G 1/00 547 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/30 562 ,  H01L 21/30 564 ,  H01L 21/30 566 ,  H01L 21/30 569

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭58-145144
  
• 特開昭61-210628
  
• 特開昭60-195934