特許
J-GLOBAL ID:200903011902455989
高精密転写性ポリカーボネート樹脂光学用成形材料、およびそれより形成された光ディスク基板
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大島 正孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-146665
公開番号(公開出願番号):特開2002-338798
出願日: 2001年05月16日
公開日(公表日): 2002年11月27日
要約:
【要約】【課題】 精密転写性に優れ、かつハイサイクル成形に対して熱安定性に優れたポリカーボネート樹脂よりなる光学用成形材料を提供する。【解決手段】 2,2-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)プロパンを二価フェノール成分として得られた芳香族ポリカーボネート樹脂(PC-A)60〜99重量%と下記式[I]【化1】(但し、式中R1〜R4は、それぞれ独立して水素原子または炭素原子数1〜4の炭化水素基を示す)で表される化合物を二価フェノール成分として得られた芳香族ポリカーボネート樹脂(PC-M)1〜40重量%とを含有してなる混合樹脂組成物であるポリカーボネート樹脂100重量部に、(A)炭素数10〜22の一価脂肪酸と脂肪族多価アルコールとから誘導される部分および/または全エステル0.01〜0.1重量部、(B)リン酸エステル0.001〜0.05重量部および(C)亜リン酸エステル0.001〜0.01重量部を配合してなる高精密転写性ポリカーボネート樹脂光学用成形材料。
請求項(抜粋):
2,2-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)プロパンを二価フェノール成分として得られた芳香族ポリカーボネート樹脂(PC-A)60〜99重量%と下記式[I]【化1】(但し、式中R1〜R4は、それぞれ独立して水素原子または炭素原子数1〜4の炭化水素基を示す)で表される化合物を二価フェノール成分として得られた芳香族ポリカーボネート樹脂(PC-M)1〜40重量%とを含有してなる混合樹脂組成物であるポリカーボネート樹脂100重量部に、(A)炭素数10〜22の一価脂肪酸と脂肪族多価アルコールとから誘導される部分および/または全エステル0.01〜0.1重量部、(B)リン酸エステル0.001〜0.05重量部および(C)亜リン酸エステル0.001〜0.01重量部を配合してなる高精密転写性ポリカーボネート樹脂光学用成形材料。
IPC (8件):
C08L 69/00
, C08K 5/103
, C08K 5/521
, C08K 5/524
, G02B 1/04
, G11B 7/24 526
, G11B 7/24
, G11B 7/24 561
FI (8件):
C08L 69/00
, C08K 5/103
, C08K 5/521
, C08K 5/524
, G02B 1/04
, G11B 7/24 526 R
, G11B 7/24 526 U
, G11B 7/24 561 M
Fターム (13件):
4J002CG011
, 4J002CG012
, 4J002EW046
, 4J002EW067
, 4J002FD206
, 4J002FD207
, 5D029KA16
, 5D029KA19
, 5D029WB11
, 5D029WB17
, 5D029WC01
, 5D029WC04
, 5D029WC05
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