特許
J-GLOBAL ID:200903011904158256
形状測定方法及び装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
古谷 史旺 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-251424
公開番号(公開出願番号):特開2000-081329
出願日: 1998年09月04日
公開日(公表日): 2000年03月21日
要約:
【要約】【課題】 形状測定装置に固有な装置誤差を確実に取り除き、高い測定精度を有する形状測定方法及び形状測定装置を提供する。【解決手段】 被測定物に似に近似な形状を有し、設計上の形状データが明らかな原器を測定して第1の測定値を求める。次に、原器の形状データを用いて第1の測定値を補正し、装置誤差量を求める。次に、被測定物の形状を測定して第2の測定値を求め、前記装置誤差量を用いて第2の測定値を補正し、被測定物の真の座標情報を求める。
請求項(抜粋):
被測定物表面を走査して、被測定物表面の形状を測定する形状測定装置を用いた形状測定方法において、被測定物に近似な形状を有し、設計上の形状データが明らかな原器を測定して第1の測定値を求める第1のステップと、前記第1の測定値と前記原器の形状データとから前記形状測定装置に起因する装置誤差量を求める第2のステップと、前記被測定物を測定して、第2の測定値を求める第3のステップと、前記装置誤差量を用いて第2の測定値を補正し、被測定物の測定値を求める第4のステップとを有することを特徴とする形状測定方法。
IPC (2件):
FI (2件):
G01B 21/20 C
, G01B 5/00 P
Fターム (24件):
2F062AA04
, 2F062AA51
, 2F062CC20
, 2F062DD23
, 2F062DD33
, 2F062EE04
, 2F062EE62
, 2F062FF04
, 2F062FF13
, 2F062HH01
, 2F062HH13
, 2F069AA04
, 2F069AA66
, 2F069DD19
, 2F069EE20
, 2F069FF07
, 2F069GG01
, 2F069GG11
, 2F069GG62
, 2F069GG71
, 2F069HH01
, 2F069JJ07
, 2F069JJ13
, 2F069LL02
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