特許

J-GLOBAL ID：200903011906157150

緑青皮膜の形成方法

発明者： 谷 俊夫 ,  五十嵐 稔 ,  須田 英男
出願人/特許権者： 古河電気工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-175378
公開番号（公開出願番号）：特開平8-041686
出願日： 1994年07月27日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：

【要約】【目的】 屋根材等に用いられる銅材に人工緑青を効率よく形成する方法を提供する。【構成】 少なくとも表層が銅又は銅合金からなる基材を、炭酸水素イオンや炭酸イオン等を含む電解液中でアノード酸化する緑青皮膜形成方法において、電解液中に炭酸ガスを通気溶存させることにより、電解液のpH値を所定値に制御し、又炭酸水素イオン又は炭酸イオンを補給して、緑青皮膜を5〜50μmの厚さに形成する。【効果】 電解液の劣化を、電解液へ炭酸ガスを通気溶存させて防止するので、電解液を交換せずに継続して緑青皮膜の形成が可能で、生産性に優れる。

請求項（抜粋）：

少なくとも表層が銅又は銅合金からなる基材を、炭酸水素イオンを含む電解液、又は炭酸水素イオンと炭酸イオンを含む電解液のいずれかの電解液中でアノード酸化する緑青皮膜形成方法において、電解液中に炭酸ガスを通気溶存させることにより、電解液のpHを7.5 〜9.5 に制御し、又炭酸水素イオン又は炭酸イオンを補給して、緑青皮膜を5〜50μmの厚さに形成することを特徴とする緑青皮膜の形成方法。