特許
J-GLOBAL ID：200903011913612539
位置検出方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-037580
公開番号（公開出願番号）：特開平7-226370
出願日： 1994年02月09日
公開日（公表日）： 1995年08月22日
要約：
【要約】【目的】本発明は位置検出方法において、計測にかかる時間を従来に比して一段と短縮することができる方法を実現する。【構成】予め、主尺パターンと副尺パターンとが正確に重なり合つた状態の画像を第1の基準画像として登録し、また主尺パターン又は副尺パターンの一部の像を第2の基準画像として登録する。そして実際に露光された2つのパターンでなる被処理画像中からパターンマツチングによつて第1の基準画像と第2の基準画像とを検出し、その位置を求める。このようにパターンマツチングによつて2つの基準画像の位置関係を求めることにより、2つのパターンが正確に重なる位置を容易に検出することができ、また計測に要する時間を一段と短縮することができる。
請求項（抜粋）：
主尺パターンを含む第1のパターンと副尺パターンを含む第2のパターンとを、前記主尺パターンと前記副尺パターンとが重なり合うように基板上に形成し、前記主尺パターンと前記副尺パターンとの重なりの状態に基づいて前記第1のパターンと前記第2のパターンとの位置関係を検出する位置検出方法において、前記主尺パターンと前記副尺パターンとが正確に重なり合う状態の画像を第1の基準画像として登録する工程と、前記主尺パターン若しくは前記副尺パターンの一部の像を第2の基準画像として登録する工程と、前記基板上の画像を被処理画像として検出する工程と、前記被処理画像から前記第1の基準画像を検出して前記基板上の前記第1の基準画像の位置を求める工程と、前記被処理画像から前記第2の基準画像を検出して前記基板上の前記第2の基準画像の位置を求める工程と、前記第1の基準画像の位置と前記第2の基準画像の位置とに基づいて前記位置関係を求める工程とを含むことを特徴とする位置検出方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 9/00
, G06T 7/00
, H01L 21/68
H01L 21/30 522 Z
, G06F 15/62 405 C
, H01L 21/30 502 V
