特許
J-GLOBAL ID：200903011916621210
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 正次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-299929
公開番号（公開出願番号）：特開平7-153743
出願日： 1993年11月30日
公開日（公表日）： 1995年06月16日
要約：
【要約】【目的】 プラズマを電極の対向空間にとじ込める為に、対向電極の周縁に沿って形成したナローギャップの間隔を広げられるようにしたプラズマ処理装置を提供することを目的としている。【構成】 真空処理室1内に、互いに平行な2枚の電極2、3を設け、一方の電極に高周波電力を印加することにより2枚の電極2、3間で生成させた反応性ガスプラズマによって、いずれかの電極に支持されたウエハー5の表面を処理する装置において、2枚の電極2、3の周縁に沿って、中央部の対向間隔16より狭いナローギャップ部分4が形成してあると共に、一方の電極2の外側面を覆うアースシールド12が絶縁体11を介して設けてあり、アースシールド12の端縁内側に、ナローギャップ部分4内に張出す環状延長部12bが設けてある。
請求項（抜粋）：
真空処理室内に、互いに平行な2枚の電極を設け、一方の電極に高周波電力を印加することにより2枚の電極間で生成させた反応性ガスプラズマによって、いずれかの電極に支持された被処理基板の表面を処理する装置において、前記2枚の電極の周縁に沿って、電極中央部の対向間隔より狭いナローギャップ部分が形成してあると共に、前記高周波電力が印加される一方の電極に、該電極の外側面を覆う、導電性材料製のアースシールドが設けてあり、該アースシールドの端縁内側に、前記ナローギャップ部分内に張出す、環状延長部が設けてあることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/205
