特許

J-GLOBAL ID：200903011922219203

投影光学系及びそれを用いた投影露光装置

発明者： 吽野 靖行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 西山 恵三 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-068536
公開番号（公開出願番号）：特開2000-331927
出願日： 2000年03月13日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】 投影光学系に含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正して高解像度でパターンを結像すること。【解決手段】 複数枚のレンズエレメント1,2,3を有する投影光学系PLに光軸方向に主軸を有する一軸結晶、及び/又は該一軸結晶と同等の歪み分布を有する材質より成る複屈折補正部材4を設け、この複屈折補正部材によって、複数枚のレンズエレメント1,2,3で発生する複屈折をキャンセルする。

請求項（抜粋）：

1つ又は複数枚のレンズエレメントを有する投影光学系において、該投影光学系は光軸方向に主軸を有する一軸結晶より成る複屈折補正部材を少なくとも1つ及び/又は該一軸結晶と同等の歪み分布を有する材質より成る複屈折補正部材を少なくとも1つ含み、該複屈折補正部材の特性は、前記レンズエレメントの1つ又は複数枚で発生する複屈折をキャンセルするように決められることを特徴とする投影光学系。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/22

FI (4件)：

H01L 21/30 516 A ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/22 H ,  G03F 7/22 Z

Fターム (17件)：

2H087KA21 ,  2H087NA00 ,  2H087RA00 ,  2H087RA42 ,  2H087UA02 ,  2H087UA04 ,  2H097BA01 ,  2H097BA06 ,  2H097CA06 ,  2H097GB01 ,  2H097JA03 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046BA03 ,  5F046CB12 ,  5F046CB27 ,  5F046DA13