現像装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-137145
公開番号（公開出願番号）：特開平9-320941
出願日： 1996年05月30日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：

【要約】【課題】ウェハ8に転写されたパターンを現像する現像装置において、現像液を無駄にすることなく炭酸塩の混入による現像不良を起さない。【解決手段】現像液を滴下後にノズル6を開閉弁付きガス容器1に気密に差込み、ノズル6の先端を不活性ガスの中に入れ、ノズル6に残余する現像液を外気に触れさせない。

請求項（抜粋）：

半導体ウェハ上にノズルから現像液を滴下し該半導体ウェハ面に転写されたパターンを現像する現像装置において、前記現像液を滴下後あるいは滴下事前に前記ノズルを気密に差し込みあるいは抜き出し得る開閉弁を具備するとともに不活性ガスを蓄える容器を備えることを特徴とする現像装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501

FI (2件)：

H01L 21/30 569 F , G03F 7/30 501

前のページに戻る