特許

J-GLOBAL ID：200903011928890780

位置計測方法及び装置、露光方法及び装置、並びにプログラム

発明者： 杉原 太郎 ,  三村 正文
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 前田 均 ,  西出 眞吾 ,  大倉 宏一郎 ,  佐藤 美樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-152666
公開番号（公開出願番号）：特開2004-356414
出願日： 2003年05月29日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：

【課題】基板に形成された直線状輪郭の撮像結果のみを用いて基板の位置情報を計測できるようにする。【解決手段】ウエハWには直線状輪郭として従来から形成されているオリエンテーションフラットOF以外に、表裏判別用のサブオリエンテーションOF1,OF2が形成されている。プリアライメントにおいてオリエンテーションフラットOF及びサブオリエンテーションフラットOF1のみの撮像結果が得られた場合には、各々の近似直線L11,L12を求め、ウエハWの中心に対するオリエンテーションフラットOF及びサブオリエンテーションフラットOF1の設計上の距離G1,G2だけ近似直線L11,L12の各々をウエハWの中心に向けて移動させ、その交点C2をウエハWの中心と推定する。【選択図】 図12

請求項（抜粋）：

互いに直交関係にある第1及び第2直線状輪郭と曲線状輪郭とを有する物体の位置情報を計測する位置計測方法であって、 前記第1及び第2直線状輪郭の一部をそれぞれ撮像する撮像工程と、 前記撮像工程の撮像結果に基づいて、前記第1直線状輪郭に対する第1近似直線を求める第1直線近似工程と、 前記撮像工程の撮像結果に基づいて、前記第2直線状輪郭に対する第2近似直線を求める第2直線近似工程と、 前記第1及び第2近似直線を用いて前記物体の基準位置を推定する推定工程と を含むことを特徴とする位置計測方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F9/00 ,  H01L21/68

FI (4件)：

H01L21/30 520A ,  G01B11/00 H ,  G03F9/00 H ,  H01L21/68 F

Fターム (33件)：

2F065AA01 ,  2F065CC17 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065GG03 ,  2F065GG05 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ18 ,  2F065QQ41 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA13 ,  5F031HA53 ,  5F031JA04 ,  5F031JA06 ,  5F031JA17 ,  5F031JA28 ,  5F031JA32 ,  5F031JA36 ,  5F031JA38 ,  5F031KA06 ,  5F031KA07 ,  5F031KA08 ,  5F031LA08 ,  5F031MA27 ,  5F046AA15 ,  5F046FA10 ,  5F046FC04 ,  5F046FC08 ,  5F046FC09