特許
J-GLOBAL ID:200903011958633227
欠陥・異物検査装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小池 隆彌
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-362337
公開番号(公開出願番号):特開2000-180377
出願日: 1998年12月21日
公開日(公表日): 2000年06月30日
要約:
【要約】【課題】 基板上に3次元に分布する塵・異物・形状欠陥等を高速・高精度に検出する検査装置を提供する。【解決手段】 異なる焦点位置で同一箇所の撮像が可能な光学系と、この光学系より得られた画像を撮像する画像入力部と、該入力画像を所定量だけ移動し且つ濃淡に関して基準を適用した参照画像を生成し、画像入力部より出力された画像データをメモリーに格納することなく、データフロー型プロセッサを用いたパイプライン処理により演算処理し、ダスト・異物・形状欠陥の検出を行う画像処理部から構成される。
請求項(抜粋):
基板上に形成されたパターンの形状欠陥・傷・異物の検出を行う検査装置であって、相互に異なる焦点位置を有する2以上の光学系と、該光学系により捉えた対象物の像を電気信号に変換する撮像手段と、該撮像手段によって得られた画像情報に基づいて欠陥・傷・異物を検出する情報処理部分とからなることを特徴とする欠陥・異物検査装置。
FI (2件):
G01N 21/88 645 A
, G01N 21/88 J
Fターム (18件):
2G051AA51
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051CA04
, 2G051CA07
, 2G051CC11
, 2G051CD10
, 2G051DA07
, 2G051EA01
, 2G051EA11
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EA19
, 2G051EA20
, 2G051EB01
, 2G051EC03
, 2G051EC05
, 2G051ED15
前のページに戻る