特許

J-GLOBAL ID：200903011964119080

化学的-機械的金属表面研磨用スラリ

発明者： プレンダーガスト ジョン イー ,  ハー イーシン ,  バブ スリャデバラ ヴィ ,  リー ユーズホ ,  ハリハラプティラン マリアパン
出願人/特許権者： フェロー コーポレイション
代理人 (1件)： 西浦 ▲嗣▼晴
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-544000
公開番号（公開出願番号）：特表2002-511650
出願日： 1999年04月05日
公開日（公表日）： 2002年04月16日
要約：

【要約】本発明は、除去率を大きく高めて、最も通常な酸化剤に不活性な金属の研磨が行える化学的-機械的金属表面研磨用スラリを提供することにある。このスラリは、特に半導体ウエハ基板上の金属層を研磨するのに有効である。このスラリは、水,研磨粒子及び酸化溶液を含有している。一つの好ましい実施例としては、酸化溶液は、1以上の水容性過酸化物、1以上のアミノ酸、並びにクロム,コバルト,銅,鉄,鉛,ニッケル,パラジウム,ロジウム,サマリウム及びスカンジウムの群から選ばれた1以上の金属及び/または該金属を含有する1以上の金属含有化合物からなる。なお、この金属としては銅が好ましい。他の好ましい実施例としては、酸化溶液は、1以上の水容性過酸化物、1以上の有機アミン、並びに任意の1以上の金属及び/または1以上の金属含有化合物からなる。

請求項（抜粋）：

水と、研磨粒子と、水溶性過酸化物からなる酸化溶液とからなる化学的-機械的金属表面研磨用スラリ。

IPC (4件)：

H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304 ,  C09G 1/00 ,  C09K 3/14 550

FI (4件)：

H01L 21/304 622 D ,  H01L 21/304 622 X ,  C09G 1/00 ,  C09K 3/14 550 Z