特許

J-GLOBAL ID：200903011982103530

スライド-ビード塗布装置および塗布方法

発明者： ロバート アイバン ヒルシュバーグ ,  コスタス ニキフォロス クリストドーロー
出願人/特許権者： イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
代理人 (1件)： 谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-160921
公開番号（公開出願番号）：特開平8-010688
出願日： 1995年06月27日
公開日（公表日）： 1996年01月16日
要約：

【要約】【目的】 塗布リブの形成が始まる最大差圧を増加させるスライド-ビード塗布装置を提供する。【構成】 スライド-ビード塗布技術は塗布リップにおいて終端している下部スライド表面と連結している上部スライド表面を含む二重のスライドを使用する。基板は塗布リップを通過する塗布ロール上を塗布リップと基板との間に位置する塗布位置で液体ビードを形成するように搬送される。塗布位置は塗布ロールの外周で回転軸を通る水平中心面の下10度以上しかし50度以下である。下部スライド表面は塗布位置において基板の表面と接する平面と85度と95度の間の角度を形成する。

請求項（抜粋）：

塗布リップにおいて終端している下部スライド表面と結合している上部スライド表面、回転中心軸および該軸を通る水平中心面を有する塗布ロール、前記塗布リップと前記塗布ロールによって前記リップを通過して運搬される基板との間に位置する塗布位置に液体の橋すなわちビードが形成されるように少なくとも1種の流動する液体層を前記上部スライド表面および前記下部スライド表面に供給する手段を備え、前記塗布位置が前記塗布ロールの外周で水平中心面の10度以上かつ50度以下だけ下方であり、前記下部スライド表面が前記塗布位置で前記基板の表面に接する平面と85度と95度との間の角度を形成していることを特徴とするスライド-ビード塗布装置。

IPC (2件)：

B05D 1/30 ,  B05C 5/02