特許

J-GLOBAL ID：200903011986224120

現像装置

発明者： 江口 公平
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-168990
公開番号（公開出願番号）：特開平8-017717
出願日： 1994年06月28日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】 半導体基板上で均一なフォトレジストパターンを形成し得る現像装置を提供する。【構成】 水平面から所定角度傾斜して保持される液流板10と、液流板10上の適所に現像液100を滴下する現像液供給ノズル15と、半導体基板3の表面が液流板10の表面と同一平面上になるように半導体基板3を液流板10に対して保持する基板保持手段4と、を備えている。現像液100及び水は、傾斜した液流板10とほぼ同一平面上に設置された半導体基板3の表面上を、その半導体基板3に接触しながら流れるため、半導体基板3の表面に局部的な圧力がかからない。半導体基板3にて現像が均一に進行し、この結果、半導体基板3上のフォトレジストのパターン寸法や断面形状が格段に均一化する。

請求項（抜粋）：

水平面から所定角度傾斜して保持される液流板と、この液流板上の適所に現像液を滴下する現像液供給ノズルと、半導体基板の表面が前記液流板の表面と同一平面上になるように前記半導体基板を前記液流板に対して保持する基板保持手段と、を備えたことを特徴とする現像装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03G 15/06 102

FI (2件)：

H01L 21/30 569 D ,  H01L 21/30 569 F