特許

J-GLOBAL ID：200903011988085550

硫化水素の処理方法、水素の製造方法および光触媒反応装置

発明者： 松本 博道 ,  岸本 章 ,  田路 和幸
出願人/特許権者： 日鉄鉱業株式会社 ,  国立大学法人東北大学
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  添田 全一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-088477
公開番号（公開出願番号）：特開2006-307333
出願日： 2006年03月28日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：

【課題】光触媒を用いて高効率で、硫化水素の分解、および水素の生成を可能にする技術を提供する。【解決手段】少なくとも光触媒からなる光触媒電極1を有する液槽と金属電極2を有する液槽とを陽イオン交換膜3で分離し、光触媒電極3を有する液槽には硫化水素または有機物を含む液を収容し、光触媒電極3と金属電極2とを電気的に接続し、該光触媒を光に曝す硫化水素の処理方法および水素の製造方法であり、金属電極2を有する液槽に収容する液を酸性溶液とすることが好ましく、該光触媒が金属硫化物を含むことが好ましく、該光触媒が層状ナノカプセル構造を有する微粒子であることが好ましい。反応装置は電気分解セル11中に光電気化学セルを収容したものでもよい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくとも光触媒からなる光触媒電極を有する液槽と金属電極を有する液槽とを陽イオン交換膜で分離し、該光触媒電極を有する液槽には硫化水素を含む液を収容し、該光触媒電極と該金属電極とを電気的に接続し、該光触媒を光に曝す硫化水素の処理方法。

IPC (8件)：

C25B 11/06 ,  B01J 27/04 ,  B01J 33/00 ,  B01J 35/02 ,  B01J 19/08 ,  B01J 19/24 ,  C02F 1/46 ,  C25B 1/02

FI (9件)：

C25B11/06 A ,  B01J27/04 M ,  B01J33/00 Z ,  B01J35/02 H ,  B01J35/02 J ,  B01J19/08 A ,  B01J19/24 A ,  C02F1/46 Z ,  C25B1/02

Fターム (58件)：

4D061DA08 ,  4D061DB18 ,  4D061DB19 ,  4D061DB20 ,  4D061DC17 ,  4D061EA02 ,  4D061EB13 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061ED17 ,  4G075AA03 ,  4G075AA05 ,  4G075BA04 ,  4G075BD16 ,  4G075CA20 ,  4G075CA32 ,  4G075CA54 ,  4G075EB01 ,  4G075EB31 ,  4G075EC21 ,  4G075FB12 ,  4G075FC02 ,  4G075FC04 ,  4G169AA03 ,  4G169BA14B ,  4G169BA17 ,  4G169BA48A ,  4G169BB09A ,  4G169BB09B ,  4G169BC36B ,  4G169CA05 ,  4G169CA10 ,  4G169CA11 ,  4G169CB81 ,  4G169DA06 ,  4G169EB19 ,  4G169EE01 ,  4G169HA02 ,  4G169HA05 ,  4G169HA13 ,  4G169HB10 ,  4G169HC01 ,  4G169HC36 ,  4G169HE02 ,  4G169HE03 ,  4G169HF05 ,  4K011AA20 ,  4K011AA21 ,  4K011AA29 ,  4K011DA11 ,  4K021AA01 ,  4K021BA01 ,  4K021DB18 ,  4K021DB21 ,  4K021DB31 ,  4K021DB46 ,  4K021DC03 ,  4K021DC15

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 光触媒、その製造方法並びに光触媒使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-005812   出願人：田路和幸, 同和鉱業株式会社

審査官引用 (3件)

• 特開昭56-146883
  
• 光触媒およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-074458   出願人：日鉄鉱業株式会社, 科学技術振興事業団
• 天然ガスからの硫黄化合物の除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-063585   出願人：千代田化工建設株式会社