マスク修正方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：韮澤弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-266112
公開番号（公開出願番号）：特開平5-107742
出願日： 1991年10月15日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：

【要約】【目的】フォトマスク等のマスクの如何なる欠陥でも簡単な方法で正確に修正することができるマスク修正方法。【構成】データ比較型マスク外観検査装置7において、実際に描画されたマスク4から得られたパターンデータと描画データ1から得られたパターンデータとを比較してマスク4の欠陥部の検出を行い、その位置情報を抽出すると共に、描画データから得られたパターンデータから欠陥部に対応する部分近傍のパターンデータを切り出し、切り出されたパターンデータから欠陥部近傍のあるべきパターン輪郭情報を抽出作成し、欠陥部位置情報と欠陥部近傍のあるべきパターン輪郭情報とに基づいて、マスク4のモニタ像上に欠陥部近傍のあるべきパターン輪郭を重畳して表示し、この表示に基づいて欠陥部を修正する。チップ比較型マスク外観検査装置によっても同様に修正できる。

請求項（抜粋）：

半導体集積回路製造工程等で用いられるマスクの修正方法において、実際に描画された被修正マスクから得られたパターンデータと描画データから得られたパターンデータとを比較して被修正マスクの欠陥部の検出を行い、その位置情報を抽出すると共に、描画データから得られたパターンデータから欠陥部に対応する部分近傍のパターンデータを切り出し、切り出されたパターンデータから欠陥部近傍のあるべきパターン輪郭情報を抽出作成し、得られた欠陥部位置情報と欠陥部近傍のあるべきパターン輪郭情報とに基づいて、マスクパターン修正時に、被修正マスクのモニタ像の当該欠陥部近傍像上に位置合わせして欠陥部近傍のあるべきパターン輪郭を重畳して表示し、この表示に基づいて欠陥部を修正することを特徴とするマスク修正方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭53-071563
特開平2-161434
特開昭47-000036

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