特許

J-GLOBAL ID：200903012004088330

統合化学機械研磨

発明者： ステイリー,ブラッドリー ジェイ. ,  ボガシュ,グレゴリー エイチ. ,  チャンバーレイン,ジェフリー ピー. ,  フィーニー,ポール エム. ,  ウォルターズ,アリシア エフ. ,  グラムバイン,スティーブン ケー. ,  ミューラー,ブライアン エル. ,  シュクローダー,デイビッド ジェイ.
出願人/特許権者： キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-574322
公開番号（公開出願番号）：特表2003-530227
出願日： 2001年04月05日
公開日（公表日）： 2003年10月14日
要約：

【要約】本発明は、多成分の研磨及び/又は清浄化組成物を使用する基材の研磨及び/又は清浄化方法を提供する。ここでこの研磨及び/又は清浄化組成物の成分は、使用箇所又は使用箇所への供給の直前に混合する。また本発明は、単一の装置を使用して同時に1よりも多くの基材を研磨及び/又は清浄化する方法を提供する。ここでは異なる研磨及び/又は清浄化組成物をそれぞれの基体に供給する。

請求項（抜粋）：

(i)2又はそれよりも多くの基材を提供すること、(ii)各々が多成分研磨及び/又は清浄化組成物の成分を保持する2又はそれよりも多くの貯蔵装置を提供すること、(iii)前記研磨及び/又は清浄化組成物の成分を、前記2又はそれよりも多くの貯蔵装置から各基材に供給すること、及び(iv)前記2又はそれよりも多くの基材を、同時に研磨及び/又は清浄化することを含む、2又はそれよりも多くの基材を同時に研磨及び/又は清浄化する方法であって、前記2又はそれよりも多くの基材に供給される研磨及び/又は清浄化組成物が異なっており、且つ同じ貯蔵装置から供給される少なくとも1つの共通成分を有する、2又はそれよりも多くの基材を同時に研磨及び/又は清浄化する方法。

IPC (3件)：

B24B 57/02 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 622

FI (3件)：

B24B 57/02 ,  B24B 37/00 K ,  H01L 21/304 622 E

Fターム (7件)：

3C047FF08 ,  3C047GG15 ,  3C058AA07 ,  3C058AC04 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17