特許
J-GLOBAL ID：200903012005377238

密閉式撹拌装置

発明者：
西岡 光利

西岡 光利 について

, 
浅井 幹雄

浅井 幹雄 について


出願人/特許権者：
佐竹化学機械工業株式会社

佐竹化学機械工業株式会社 について


代理人 (1件)： 小山 輝晃
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-033394
公開番号（公開出願番号）：特開2004-243161
出願日： 2003年02月12日
公開日（公表日）： 2004年09月02日
要約：
【課題】撹拌液に旋回方向流を発生させることができると共に従来のマグネットの磁力によって駆動する撹拌装置よりも大きな駆動力が得られ、しかも撹拌液やその蒸気が漏洩する恐れのある軸シール部を有しないような、大容量の撹拌装置にも適用可能な密閉式撹拌装置を提供する。【解決手段】中央部が上下動可能なダイアフラム3を撹拌槽2の上面部に該上面部を気密に覆うように設け、該ダイアフラム3の中央部を貫通する桿体4を該ダイアフラム3に固定して垂設し、該桿体4の下端部に撹拌翼5を固定して垂設して、該撹拌翼5を上下動させて前記撹拌槽2内を撹拌するように形成し、又前記撹拌槽2の内面にバッフルプレート2aを設けた。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
上下動可能なダイアフラムを撹拌槽の上面部に該上面部を気密に覆うように設け、該ダイアフラムを貫通する桿体を該ダイアフラムに固定して垂設し、更に該桿体の下端部に撹拌翼を固定して垂設して、該撹拌翼を上下動させて前記撹拌槽内を撹拌するように形成すると共に該撹拌槽の内面にバッフルプレートを設けた密閉式撹拌装置。
IPC (1件)：
B01F11/00
FI (1件)：
B01F11/00 A
Fターム (1件)：
4G036AB04
引用特許：
審査官引用 (12件)
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