特許

J-GLOBAL ID：200903012008050540

蒸着装置

発明者： 柏谷 誠 ,  中田 純司
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (3件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  福島 弘薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-236325
公開番号（公開出願番号）：特開2004-076074
出願日： 2002年08月14日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】成膜材料の蒸発量を正確に測定し、高精度に組成制御を行い、膜厚の厚い成膜においても安定蒸着を可能とする。【解決手段】真空蒸着室内に保持された蒸着対象物に対し、少なくとも2つの蒸発源から蒸発させた成膜材料を、所定の膜厚で成膜する蒸着装置であって、成膜材料の蒸着レートを検出する、少なくとも2つの蒸発源に対応して配置されるセンサと、前記成膜材料が間欠的に付着するように、蒸発した前記成膜材料に対して前記センサを間欠的に遮蔽する、少なくとも1つの前記センサに対して配置される遮蔽手段と、対応しない成膜材料が前記センサに回り込むことを防止する、前記遮蔽手段が配置されない少なくとも1つの前記センサに対して配置される回り込み防止手段と、前記センサによって検出された成膜材料の蒸着レートに基づいて成膜制御を行う成膜制御手段とを有することを特徴とする蒸着装置を提供することにより、前記課題を解決する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空蒸着室内に保持された蒸着対象物に対し、少なくとも2つの蒸発源から蒸発させた成膜材料を、所定の膜厚で成膜する蒸着装置であって、 成膜材料の蒸着レートを検出する、少なくとも2つの蒸発源に対応して配置されるセンサと、 前記成膜材料が間欠的に付着するように、蒸発した前記成膜材料に対して前記センサを間欠的に遮蔽する、少なくとも1つの前記センサに対して配置される遮蔽手段と、 対応しない成膜材料が前記センサに回り込むことを防止する、前記遮蔽手段が配置されない少なくとも1つの前記センサに対して配置される回り込み防止手段と、 前記センサによって検出された成膜材料の蒸着レートに基づいて成膜制御を行う成膜制御手段とを有することを特徴とする蒸着装置。

IPC (2件)：

C23C14/24 ,  G21K4/00

FI (3件)：

C23C14/24 C ,  C23C14/24 G ,  G21K4/00 L

Fターム (15件)：

2G083AA03 ,  2G083BB01 ,  2G083CC02 ,  2G083CC10 ,  2G083DD11 ,  2G083DD12 ,  2G083DD16 ,  2G083EE10 ,  4K029BA41 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA12 ,  4K029DB14 ,  4K029EA01