特許

J-GLOBAL ID：200903012014892510

染料系偏光膜

発明者： 荻野 和哉 ,  青木 節子 ,  東 浩二
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-218530
公開番号（公開出願番号）：特開平5-053014
出願日： 1991年08月29日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：

【要約】【目的】 よう素を用いた偏光膜に匹敵する程の高い偏光性能を有し、かつ耐久性が良好である染料系偏光膜を提供する。【構成】 遊離酸の形で下式(I)【化1】(式中、Meは、銅、ニッケル、亜鉛又は鉄を、Q1 は置換されていてもよいナフチル基を表わし、Q2 は置換されていてもよい1-ナフトール又は2-ナフトール残基を表わし、そのヒドロキシ基はアゾ基の隣接にあり、Meで表わされる遷移金属と錯結合している。R1 は水素、低級アルキル、低級アルコキシ、スルホ、又は置換あるいは未置換アミノ基を表わす。)で示されるジスアゾ化合物を偏光膜基材に含有してなる染料系偏光膜。

請求項（抜粋）：

偏光膜基材に遊離酸の形で下式(I)【化1】(式中、Meは銅、ニッケル、亜鉛又は鉄を、Q1 は置換されていてもよいナフチル基を表わし、Q2 は置換されていてもよい1-ナフトール又は2-ナフトール残基を表わし、そのヒドロキシ基はアゾ基の隣接位にあり、Meで表わされる遷移金属と錯結合している。R1 は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、スルホ基、又は置換されていてもよいアミノ基を表わす。)で示されるジスアゾ化合物を含有してなる染料系偏光膜。

IPC (3件)：

G02B 5/30 ,  C09B 31/068 ,  D06P 3/00