特許
J-GLOBAL ID：200903012025134870
一酸化炭素濃度低減装置と一酸化炭素濃度低減方法および一酸化炭素選択酸化触媒の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下出 隆史 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-134588
公開番号（公開出願番号）：特開平11-310402
出願日： 1998年04月27日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：
【要約】【課題】 一酸化炭素選択酸化触媒の活性をより向上させ、一酸化炭素選択酸化反応を促進する活性が充分となる温度範囲をより広くする。【解決手段】 CO選択酸化部34は、白金およびルテニウムからなる触媒金属を備えた一酸化炭素選択酸化触媒が充填されており、その内部は上流側から下流側に向かってA1〜A7まで7つの領域に分割されている。A1領域ではルテニウムだけを触媒金属として備え、A7領域では白金だけを触媒金属として備えている。A2〜A6領域では、触媒金属として白金とルテニウムとが混在する状態で備えられており、上流側の領域ほどルテニウムの割合が高くなっている。これによってCO選択酸化部34では、CO選択酸化反応を促進する活性が充分に高くなる温度範囲が、上流側の領域ほど高くなる。
請求項（抜粋）：
水素と該水素よりも濃度が低い一酸化炭素とを含有する水素リッチガスと、酸素を含有する酸化ガスとの供給を受け、前記一酸化炭素を選択的に酸化する選択酸化反応を促進する一酸化炭素選択酸化触媒を用いて、前記水素リッチガス中の一酸化炭素濃度を低減する一酸化炭素濃度低減装置であって、前記一酸化炭素選択酸化触媒は、前記選択酸化反応を促進する触媒活性をそれぞれ有し、該触媒活性が所定のレベルよりも高くなり得る触媒温度の範囲を表わす活性温度範囲がそれぞれ異なる第1および第2の触媒金属を備え、前記一酸化炭素濃度低減装置内の少なくとも一部において、前記第1および第2の触媒金属が混在する混在領域を形成し、前記第1および第2の触媒金属は、前記混在領域においては、前記第1および第2の触媒金属が示すそれぞれの前記活性温度範囲の中間の温度であって、前記第1および第2の触媒金属が混在する際の混合比率に応じた温度が、前記混在領域における前記活性温度範囲となる触媒金属であり、前記混在領域は、予め設定される該混在領域の触媒温度において、前記触媒活性が充分に高くなるように、前記混在領域における前記第1および第2の触媒金属の混合比率を定めたことを特徴とする一酸化炭素濃度低減装置。
IPC (4件)：
C01B 3/58
, B01J 23/46 301
, C01B 31/20
, H01M 8/06
C01B 3/58
, B01J 23/46 301 M
, C01B 31/20 A
, H01M 8/06 R
