特許

J-GLOBAL ID：200903012034488286

回路パターン形成装置及び回路パターン形成方法

発明者： 酒巻 賢二
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-020251
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223817
出願日： 1999年01月28日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】【課題】 スクリーンマスクを使用せずに、容易に回路パターンの形成が可能な回路パターン形成装置及び回路パターン形成方法を提供する。【解決手段】 テーブル3上にマスターパターン4及び基板5を固定し、テーブル3をピッチ移動させながら、光電センサ8でマスタパターン4を読み取り、読み取ったマスタパターン4に占めるパターン部の面積が1/2を越える場合のみ、ディスペンサ13から基板5に導電性物質を塗布し、基板5上に回路パターンを形成する。パターン形成後、基板5を熱処理することにより導電性物質を硬化させ回路基板を完成する。

請求項（抜粋）：

基板に導電性物質を塗布して回路パターンを形成する回路パターン形成装置において、回路パターンが描かれたマスターパターン及び回路パターンが形成される基板を搭載し、ピッチ移動を行うテーブルと、前記テーブルの移動制御を行うテーブル制御手段と、前記マスターパターンを読み取る光電センサと、導電性物質を噴射するディスペンサと、前記光電センサで読み取った検知信号に対応し、前記ディスペンサの駆動制御を行うディスペンサ制御手段と、を有することを特徴とする回路パターン形成装置。

IPC (3件)：

H05K 3/10 ,  B05C 5/02 ,  B05C 11/00

FI (3件)：

H05K 3/10 D ,  B05C 5/02 ,  B05C 11/00

Fターム (14件)：

4F041AA05 ,  4F041AB02 ,  4F041BA27 ,  4F042AA06 ,  4F042BA08 ,  4F042BA12 ,  4F042CB04 ,  5E343AA02 ,  5E343BB72 ,  5E343DD13 ,  5E343DD15 ,  5E343DD18 ,  5E343GG11 ,  5E343GG20