特許
J-GLOBAL ID:200903012040738995
光ディスク原盤の作製方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小鍜治 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-295620
公開番号(公開出願番号):特開平6-150391
出願日: 1992年11月05日
公開日(公表日): 1994年05月31日
要約:
【要約】【目的】 高記録密度を達成するため、深さの異なった二種類の信号ピットを安定して形成する。【構成】 吸収端の異なる二種類のフォトレジスト2、3を重ねて塗布した基板1に、波長の異なる二種類の光を照射する事により、一方の光は一方のフォトレジスト2のみを感光させ、もう一方の光は両方のフォトレジスト2、3を感光させるので、フォトレジスト2、3の厚さに応じた深さの信号ピットを形成することができ、深さの異なる二種類の信号ピットを安定して形成することができる。
請求項(抜粋):
吸収端の異なる二種類のフォトレジストを重ねて塗布した基板を用い、波長の異なる二種類の光を照射して深さの異なる二種類の信号ピットを形成することを特徴とする光ディスク原盤の作製方法。
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