特許
J-GLOBAL ID:200903012045841573

EUV照明光学系の射出瞳における照明分布の制御

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邊 隆 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-514635
公開番号(公開出願番号):特表2003-506881
出願日: 2000年07月26日
公開日(公表日): 2003年02月18日
要約:
【要約】本発明は、投影露光装置用の照明光学系に関し、193nm以下の波長、特に、10〜20nmの波長の光を放射する光源1と、複数の格子素子10,40,42,100,102に区分けされている少なくとも一つの反射鏡34を有していて、二次光源14を生成する反射鏡装置を照明するための集光ユニット30,32と、絞り面16と、この絞り面16を照明光学系の射出瞳390に結像させる、一つ以上の光学素子36,38と、上記複数の格子素子の像が大部分一致して、予め定められたフィールドが或る強度分布で照明される物面39と、種類及び/又は充填度によって定められる或る照度分布を射出瞳390内に生成する光学素子30,310,320,330とを有し、上記照度分布の種類及び/又は充填度は、上記光学素子30,310,320,330を交換したり、移動したり、あるいは、変形したりすることによって変更される。
請求項(抜粋):
193nm以下の波長、とりわけ、10nmから20nmの波長の光を放射する光源(1)を有し、 二次光源(14)を生成する反射鏡装置を照明するための集光ユニット(30,32)を有し、 前記反射鏡装置は、複数の格子素子(10,40,42,100,102)に区分けされている少なくとも一つの反射鏡(34)を有してなり、 さらに、絞り面(16)と、 この絞り面(16)を照明光学系の射出瞳(390)に結像させる、一つまたは複数の第1の光学素子(36,38)と、 前記複数の格子素子の像が大部分一致して、これらの像により予め定められたフィールドが或る強度分布で照明される物面39と、 種類及び/又は充填度によって予め設定される或る照度分布を射出瞳(390)内に生成する第2の光学素子(30,310,320,330)とを有し、 前記照度分布の種類及び/又は充填度は、前記光学素子(30,310,320,330)を交換したり、移動したり、あるいは、変形したりすることによって変更可能に構成されている投影露光装置のための照明光学系。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G02B 19/00 ,  G03F 7/20 521
FI (4件):
G02B 19/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 527
Fターム (12件):
2H052BA02 ,  2H052BA07 ,  2H052BA09 ,  2H052BA12 ,  5F046BA03 ,  5F046CA08 ,  5F046CB02 ,  5F046CB12 ,  5F046CB23 ,  5F046GA03 ,  5F046GB01 ,  5F046GB02

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