特許

J-GLOBAL ID：200903012047926614

貯水槽水殺菌装置

発明者： 大坪 寿弘
出願人/特許権者： 株式会社デンソー
代理人 (1件)： 矢作 和行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-175299
公開番号（公開出願番号）：特開2005-007317
出願日： 2003年06月19日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：

【課題】銀イオン生成装置を流通する流量、電解効率、循環効率などの要因に基づいて電流値および電解時間を求める制御手段を配設させることで、過剰な銀イオンの添加を抑えるとともに殺菌能力の優る貯水槽水殺菌装置を実現する。【解決手段】浴水を循環させるために一端および他端を浴槽11に接続した浴槽水循環流路12と、浴水に殺菌性金属イオンである銀イオンを添加する銀イオン生成装置15とを備え、浴槽水循環流路12には、銀イオン生成装置15の上流側に紫外線を照射する紫外線照射装置16が設けられた。これにより、過剰な銀イオンの添加を抑えるとともに殺菌能力が優れる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

貯水槽水を循環させるために一端および他端を貯水槽(11)に接続した貯水槽水循環流路(12)と、 前記貯水槽水循環流路(12)に配設され、前記貯水槽水に殺菌性金属イオンである銀イオンを添加する銀イオン生成装置(15)とを備え、 前記貯水槽水循環流路(12)には、前記銀イオン生成装置(15)の上流側に紫外線を照射する紫外線照射装置(16)が設けられたことを特徴とする貯水槽水抗菌装置。

IPC (5件)：

C02F1/50 ,  A47K3/00 ,  C02F1/32 ,  C02F1/46 ,  C02F9/00

FI (18件)：

C02F1/50 510A ,  C02F1/50 520L ,  C02F1/50 531E ,  C02F1/50 540B ,  C02F1/50 550D ,  C02F1/50 550L ,  C02F1/50 560C ,  C02F1/50 560F ,  C02F1/50 560Z ,  A47K3/00 M ,  C02F1/32 ,  C02F1/46 Z ,  C02F9/00 502D ,  C02F9/00 502L ,  C02F9/00 502N ,  C02F9/00 503F ,  C02F9/00 504B ,  C02F9/00 504D

Fターム (19件)：

4D037AA09 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037CA02 ,  4D037CA04 ,  4D061DA07 ,  4D061DB09 ,  4D061EA02 ,  4D061EB31 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061FA07 ,  4D061FA13 ,  4D061GA02 ,  4D061GA21 ,  4D061GC12 ,  4D061GC15