特許
J-GLOBAL ID:200903012077100249

低発塵性の装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-316276
公開番号(公開出願番号):特開平7-172571
出願日: 1993年12月16日
公開日(公表日): 1995年07月11日
要約:
【要約】【目的】 微細粒子の発生を抑制するとともに、ワークの表面への微細粒子の付着を抑え、また、周辺への微細粒子の飛散を抑えることができる低発塵性の装置を提供する。【構成】 清浄な環境下でワーク13を処理する低発塵性の装置において、ワーク13が摺動接触する部材12が、硬質な材質の基材と、該基材表面に形成されたダイヤモンド状カーボンからなる皮膜とで構成されている。
請求項(抜粋):
清浄な環境下でワークを処理する低発塵性の装置において、前記ワークが摺動接触する部材が、硬質な材質の基材と該基材表面に形成されたダイヤモンド状カーボンからなる皮膜とで構成されていることを特徴とする低発塵性の装置。
IPC (4件):
B65G 49/07 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66 ,  H01L 21/68

前のページに戻る