特許
J-GLOBAL ID：200903012080884390
ウエ-ハ洗浄方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
井上 清子 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-350420
公開番号（公開出願番号）：特開平5-347289
出願日： 1991年12月11日
公開日（公表日）： 1993年12月27日
要約：
【要約】【目的】 ウエ-ハをむらなく均一に洗浄する。【構成】 ウエ-ハを純水等の流体により浮上させながら回転する。このウエ-ハの周縁に、横向に洗浄液供給ノズルを向い合せに組み合せて設ける。この洗浄液供給ノズルから、薬液等の洗浄液を、ウエ-ハの周縁部から中心部に向けて被洗浄面に沿って供給する。この洗浄液は、ウエ-ハの回転に伴って被洗浄面の全体に拡がりながら洗浄液層を形成し、ウエ-ハの周縁から流下する。このように、ウエ-ハの被洗浄面の洗浄液層の入替は活発に行われ、被洗浄面は早期に、かつ均一にむらなく洗浄される。
請求項（抜粋）：
ウエ-ハを回転し、該ウエ-ハの周縁部から中心部に向け被洗浄面に沿って洗浄液を供給し、該被洗浄面の表面に拡がりながら流下する洗浄液層を形成して洗浄することを特徴とするウエ-ハ洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, B08B 3/02
