特許
J-GLOBAL ID:200903012096301468

表面処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 薄田 利幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-026385
公開番号(公開出願番号):特開平8-222617
出願日: 1995年02月15日
公開日(公表日): 1996年08月30日
要約:
【要約】【目的】被処理物搬送装置の調整を簡略化し、信頼性を高め、被処理物検出機構を設置を最小限にする経済的な装置を実現する。【構成】複数のカセット載置台2-1、2-2を設置し、稼働時、1つのカセット載置台を特定位置4に移動し、搬送装置3による被処理物の収納カセットと処理室1間の移動を特定位置4の収納カセットと処理すべき処理室1間で行う。更に、特定位置4の収納カセットの近くにカセット内の被処理物検出機構6を設置する。【効果】収納カセットを載せるカセット載置台を複数設置する場合も、搬送装置とカセット載置台との被処理物の搬送位置が同じ位置であるため、搬送装置とカセット載置台との搬送位置の調整箇所が1か所にでき、調整が容易となりる。
請求項(抜粋):
箱状台上面に被処理物を収納する収納カセットを載置するカセット載置台を複数個と、上記被処理物の表面処理を行う少なくとも1個の処理室と、上記処理室と収納カセット間で上記被処理物を移動する1個の搬送装置を備えた表面処理装置において、上記複数のカセット載置台を特定の位置に移動するカセット移動機構を設け、上記搬送装置が上記特定の位置に移動したカセット載置台にセットされた収納カセットと上記処理室との間での被処理物と搬送するように構成されたことを特徴とする表面処理装置。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  B65G 49/07
FI (2件):
H01L 21/68 A ,  B65G 49/07 D

前のページに戻る