特許
J-GLOBAL ID：200903012101845722
光路長が変更された異なる角度の光の合成により光学的に干渉する断層撮影におけるスペックルの減少
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
正林 真之
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-509619
公開番号（公開出願番号）：特表2006-522341
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：
【課題】光学的に干渉する断層撮影(OCT)の画像の質を下げる要因となり、様々な病気の診断のために重要である細胞構造の識別を制限してしまうOCT画像のスペックルを減らす為、光路長の変更によって異なる角度の光の合成の実現を可能にし、光路長によって変更された各画像、異なる入射角で得られたこれらの画像の平均によって高速画像の獲得を維持し光学OCT検出への最小の変更を実現する、組織ファントムや人間の皮膚から得られたACPE画像の従来のOCTよりも質的な改善と高いSN比(“SNR”)を示すプローブカテーテル装置及び方法を提供する。【解決手段】プローブカテーテル装置及び方法は、サンプルを照射する為に提供され、特に、干渉計(5)は電磁放射(10)を発射し、さらに、サンプル部は電磁放射を受け取り、サンプルを照射するために電磁放射から少なくとも2つの放射(30,40)の生成を促進する装置(20)を具備し、少なくとも2つの放射のうちの第二放射に対して少なくとも2つの放射のうちの第一放射を遅らせるような装置を構成する。
請求項（抜粋）：
サンプルを照射する装置は、
a)電磁放射を送る干渉計と、
b)前記サンプルを放射するために、前記電磁放射から少なくとも2つの放射の生成を促進する装置を含み、前記装置は少なくとも2つの放射のうちの第二放射に対して少なくとも2つの放射のうちの第一放射を遅らせるように構成され、該電磁放射を受け取るサンプル部と、を有することを特徴とするサンプルを照射する装置。
IPC (3件)：
G01N 21/17
, A61B 1/00
, A61B 10/00
G01N21/17 620
, A61B1/00 300D
, A61B10/00 E
2G059AA06
, 2G059BB12
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059FF02
, 2G059HH01
, 2G059HH06
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ15
, 2G059JJ17
, 2G059LL01
, 4C061AA00
, 4C061BB08
, 4C061CC00
, 4C061HH51
出願人引用 (2件)
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J.M.シュミット(Schmitt)著、「光学的干渉性の顕微鏡検査のスペックルの減少のための配列の検出」、Phys.Med.Biol.42、1427-1429、1997年
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M.バシュカンスキー(Bashkansky)とJ.レインズ(Reintjes)著、「光学的干渉性の断層レントゲン写真撮影のスペックルの統計量および減少」、Opt.Lett.25、545-547、2000年
審査官引用 (2件)
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