特許
J-GLOBAL ID：200903012114743791
現像装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-075491
公開番号（公開出願番号）：特開平6-289625
出願日： 1993年04月01日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】【目的】 液晶用ガラス基板等の製造工程におけるフォトリソ工程に用いられる現像装置において、小型化を図り、生産性が高く基板の裏面も洗浄できる省液現像装置を提供する。【構成】 基板1を収容する受皿部と基板表面との微小間隔を維持したまま基板上を走査して基板の現像液を押し広げる板状部材5と、受皿部の中央に基板の裏面を真空吸着して回転させる機構11と、さらに回転機構を昇降させる機構14と基板の表裏面を洗浄させる機構10で構成することにより、同じ装置で水洗、乾燥を行うことができる。
請求項（抜粋）：
基板の導体パターンが形成されない面を支持して、前記基板を収納するとともに前記基板上の現像液を貯槽する外枠を備えた受皿部と、前記基板表面と微小間隔を維持したまま前記基板上を走査して前記の基板上の現像液を流動させる板状部材と、前記受皿中央に開口部を設け、開口部に昇降可能かつ前記基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、受皿中央の開口部に下方より前記の基板の裏面に向けて洗浄液を供給する基板裏面洗浄液供給手段と、受皿部の上方より前記基板の表面に向けて洗浄液を供給する基板表面洗浄液供給手段とを備えたことを特徴とする現像装置。
IPC (4件)：
G03F 7/30 501
, G02F 1/13 101
, H01L 21/027
, H01L 21/304 341
