特許
J-GLOBAL ID:200903012116722805

活性表面を有する酸化チタン生成物の製造方法およびこの酸化チタン生成物を水処理プロセスに使用する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 田澤 博昭 ,  加藤 公延 ,  田澤 英昭 ,  濱田 初音
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-567826
公開番号(公開出願番号):特表2005-517521
出願日: 2003年02月14日
公開日(公表日): 2005年06月16日
要約:
本酸化チタン生成物の製造方法は、加水分解性チタン化合物を含む混合物から酸化チタン沈殿物を作製するステップと、沈殿物をか焼することなく300°C未満の温度で沈殿物を加熱するステップとを含む。本酸化チタン生成物は、1nm〜30nmの範囲の一次結晶直径を有する結晶性アナターゼを含有することが好ましい。本活性表面を有する結晶性酸化チタン生成物は、本生成物を水流に懸濁し、あるいは水流を本生成物の層を通してろ過することにより希釈水流から溶解無機汚染物質を除去する方法に使用される。加水分解性チタン化合物を水流に加え、酸化チタンを粉体状の材料の層内で溶解汚染物質と共沈させてもよい。
請求項(抜粋):
水流から溶解汚染物質を除去するための、活性表面を有する結晶性酸化チタン生成物の製造方法において、 少なくとも一つの加水分解性チタン化合物を含む混合物から酸化チタン沈殿物を作製するステップと、 当該溶解汚染物質に対し高い吸着能力と高い吸着速度とを当該酸化チタン沈殿物に与える乾燥温度を選択するステップと、 当該酸化チタン沈殿物を当該乾燥温度で乾燥するステップとを含み、 当該方法がか焼ステップを含まない 製造方法。
IPC (8件):
C02F1/28 ,  B01J20/06 ,  B01J20/28 ,  B01J20/30 ,  C01G23/053 ,  C02F1/58 ,  C02F1/62 ,  C02F1/64
FI (18件):
C02F1/28 E ,  C02F1/28 B ,  C02F1/28 C ,  C02F1/28 J ,  C02F1/28 P ,  B01J20/06 A ,  B01J20/28 Z ,  B01J20/30 ,  C01G23/053 ,  C02F1/58 J ,  C02F1/58 K ,  C02F1/58 R ,  C02F1/62 B ,  C02F1/62 C ,  C02F1/62 D ,  C02F1/62 E ,  C02F1/62 Z ,  C02F1/64 A
Fターム (68件):
4D024AA04 ,  4D024AA05 ,  4D024AB12 ,  4D024AB15 ,  4D024AB16 ,  4D024AB17 ,  4D024AB18 ,  4D024BA14 ,  4D024BB01 ,  4D024BB08 ,  4D024BC01 ,  4D024BC04 ,  4D024CA01 ,  4D024DB03 ,  4D038AA02 ,  4D038AA08 ,  4D038AB31 ,  4D038AB35 ,  4D038AB37 ,  4D038AB44 ,  4D038AB58 ,  4D038AB59 ,  4D038AB60 ,  4D038AB64 ,  4D038AB65 ,  4D038AB66 ,  4D038AB67 ,  4D038AB68 ,  4D038AB69 ,  4D038AB70 ,  4D038AB71 ,  4D038AB72 ,  4D038AB73 ,  4D038AB74 ,  4D038AB75 ,  4D038AB76 ,  4D038AB82 ,  4D038BB06 ,  4D038BB17 ,  4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03 ,  4G047CD04 ,  4G047CD07 ,  4G066AA23B ,  4G066AA30D ,  4G066AA38A ,  4G066AA47A ,  4G066AB23A ,  4G066AC02D ,  4G066AC12D ,  4G066AC16D ,  4G066BA09 ,  4G066BA23 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066BA32 ,  4G066BA38 ,  4G066CA45 ,  4G066CA46 ,  4G066CA47 ,  4G066CA50 ,  4G066DA08 ,  4G066FA05 ,  4G066FA21 ,  4G066FA28 ,  4G066FA34
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 酸化チタンの製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-098706   出願人:住友化学工業株式会社
  • 特開昭54-149261

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