特許

J-GLOBAL ID：200903012117617762

多層コーティング反射鏡の製造方法

発明者： 嶋田 幸雄 ,  瀬戸 和夫 ,  井上 稔 ,  春名 基全 ,  森川 祐一
出願人/特許権者： 松下電工株式会社
代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-255086
公開番号（公開出願番号）：特開平6-111613
出願日： 1992年09月24日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：

【要約】【目的】 下地層の塗膜形成が容易であり、300°C以上の高耐熱性を有するとともに、塗装条件によらず、300°Cでクラックが発生することのない多層コーティング反射鏡を得ることのできる方法を提供する。【構成】 基体の表面に下地層、光輝性金属層、無機化合物保護被膜層を順次形成して反射鏡を製造するにあたり、前記下地層の形成を、(A)一般式Si(OR′)4 で表されるケイ素化合物および/またはコロイド状シリカ20〜200重量部、(B)一般式RSi(OR′)3 で表されるケイ素化合物100重量部、(C)一般式R2 Si(OR′)2 で表されるケイ素化合物0〜60重量部(ここで、RおよびR′は互いに独立に1価の炭化水素基を表す)が配合されていてさらに(D)平均粒径10〜300nmの金属化合物微粒子5〜100重量部が分散されているコーティング材を用いて行うようにする。

請求項（抜粋）：

基体の表面に下地層、光輝性金属層、無機化合物保護被膜層を順次形成して多層コーティング反射鏡を製造するにあたり、前記下地層の形成を、(A)一般式Si(OR′)4 で表されるケイ素化合物および/またはコロイド状シリカ20〜200重量部、(B)一般式RSi(OR′)3 で表されるケイ素化合物100重量部、(C)一般式R2 Si(OR′)2 で表されるケイ素化合物0〜60重量部(ここで、RおよびR′は互いに独立に1価の炭化水素基を表す)が配合されてなるコーティング材を用いて行う多層コーティング反射鏡の製造方法において、前記コーティング材中に、さらに(D)平均粒径10〜300nmの金属化合物微粒子5〜100重量部が分散されていることを特徴とする、多層コーティング反射鏡の製造方法。

IPC (3件)：

F21V 7/22 ,  F21M 1/00 ,  G02B 5/08