特許

J-GLOBAL ID：200903012119257771

現像剤担持体の表面処理方法及び現像剤担持体並びに現像装置

発明者： 田倉 慶三 ,  渡辺 幸生
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤岡 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-314876
公開番号（公開出願番号）：特開平9-134068
出願日： 1995年11月09日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、現像剤担持体上の現像剤層のムラ、現像剤担持体表面への現像剤の融着、スリーブゴーストの発生、現像の繰り返しでの画像濃度の低下等の問題を、常温常湿下のみならず、低温低湿下及び高温高湿下でも解決することを可能とした現像剤担持体、及び現像剤担持体の表面処理方法、並びに現像装置を提供することを目的とするものである。【解決手段】 現像剤担持体に、少なくともグラファイトを含む高分子樹脂の複合材料からなる塗膜液で表面塗膜した後、塗膜面を、十点平均粗さ(Rz)が0.1〜10μmの範囲で、平均中心線深さ(Rpm)が、十点平均粗さ(Rz)の5〜45%の範囲となるように研磨して、現像剤担持体の表面を処理する。

請求項（抜粋）：

現像剤担持体に少なくともグラファイトを含む高分子樹脂の複合材料からなる塗膜液で表面塗膜した後、塗膜面を、十点平均粗さ(Rz)が0.1〜10μmの範囲で、平均中心線深さ(Rpm)が十点平均粗さ(Rz)の5〜45%の範囲となるように研磨することを特徴とする現像剤担持体の表面処理方法。