特許

J-GLOBAL ID：200903012119593984

混合型RFプラズマ発生装置

発明者： 坂本 雄一
出願人/特許権者： ニチメン電子工研株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-271717
公開番号（公開出願番号）：特開平7-130491
出願日： 1993年10月29日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：

【要約】【目的】電子プラズマ周波数に比べて充分に低い周波数(短波帯)の電源を使用して、高伝送効率で高密度のプラズマを低い、例えば、10-1Pa以下の、ガス圧で生成することの可能な混合型RFプラズマ発生装置を提供することである。【構成】混合型RFプラズマ発生装置は、上端側が部分球状に突出し、誘電体で形成された円筒状の真空容器10と、この真空容器の外側にこれを取巻くように配設された高周波コイル15とにより構成されている。この高周波コイルは、真空容器の部分球状の一端を取り囲むように形成された部分球形状の部分15aと、この部分球形状の部分に接続され、円筒状の部分を取り囲むように形成された円筒形状の部分15bとからなる。

請求項（抜粋）：

一端側が部分球状に突出し、誘電体で形成された円筒状の真空容器と、この容器内に処理ガスを供給する手段と、前記真空容器の外側にこれを取巻くように配設され、部分球状の一端を取り囲むように形成された部分球形状のコイル上部並びに、この部分球形状の部分に接続され、円筒状の部分を取り囲むように形成された円筒形状のコイル下部を有する高周波コイルと、この高周波コイルに高周波電流を通電して、真空容器内に前記処理ガスを含むプラズマを発生させる手段とを具備する混合型RFプラズマ発生装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 341

FI (2件)：

H01L 21/30 572 A ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭55-163848